科研人员研发出黑磷晶体管 功耗可降低上万倍

时间:2020-03-31 10:19:56 作者:股民学习网
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据报道,韩国KAIST大学物理系的科研人员开发出可控厚度的黑磷隧道场效应晶体管(TFET),相对传统半导体(CMOS)晶体管,该晶体管的功耗低10倍,待机功耗低10000倍。该研究小组表示,他们研发的黑磷TFET实现了创纪录的高通态电流,这使得TFET能够以比传统CMOS晶体管更高的速度运行,并且功耗更低。华创证券建议关注:

兴发集团600141)是我国最大的磷矿资源企业。公司控股子公司中科黑磷与中科院先成立联合实验室,进行二维黑磷的大规模制备及应用,已在芯片制造、提高贵金属催化效果、抗肿瘤靶向治疗方面取得进展,已申报和正在申报的黑磷相关专利达15项。

国轩高科002074)拥有黑磷制备专利。

澄星股份600078)是我国精细磷化工龙头企业,已经获得采矿权或探矿权的磷矿资源储量超过1.26亿吨。

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